A la Fashion Week, la lutte contre la contrefaçon devient priorité

NEW YORK, 10 sept 2010 (AFP) -La Semaine de la mode printemps-été 2011 à New York s'accompagne cette année d'une attention particulière portée à la lutte contre la contrefaçon, avec une campagne législative au Congrès américain et l'ouverture à New York d'un Institut du droit de la mode.

SA Fashion Week
Photo : Andrew H. Walker - AFP

Alors que public, journalistes et stylistes venus assister à la Fashion Week découvraient sa nouvelle enceinte prestigieuse au Lincoln Center, au coin de Broadway et la 63ème rue, et suivaient les premiers défilés, la présidente de l'Association des créateurs américains (CFDA) Diane von Furstenberg a participé juste en face, à l'Université Fordham, à l'inauguration d'un Institut du droit de la mode.

"En tant que créatrice présente dans le circuit depuis très très longtemps, je peux vous dire que rien n'est plus précieux que d'avoir des avocats qui connaissent la mode", a-t-elle affirmé. "Il y a tant de raisons pour lesquelles un styliste, surtout s'il est jeune, a besoin de juristes et d'avocats", a-t-elle ajouté.

A l'heure d'internet, les défilés sont vus presque instantanément par des centaines de milliers de personnes à travers le monde, et rien n'est plus facile que copier immédiatement les modèles, dans des ateliers clandestins d'Asie, de Naples ou d'ailleurs.

L'Institut du droit de la mode va dispenser des cours de propriété intellectuelle, d'enregistrement des croquis et des marques, de commerce international, et de législation nationale et internationale. Les cours seront ouverts aux étudiants en droit ainsi qu'aux élèves des écoles de couture et stylisme.

"L'industrie de la mode emploie dans la seule ville de New York quelque 200.000 personnes dans plus de 800 entreprises", a rappelé le doyen par intérim de l'université, Michael Martin.

Au Congrès américain, la bataille s'organise aussi, autour d'un projet de loi présenté en août dernier par Charles Schumer, sénateur démocrate représentant l'Etat de New York. Le projet, baptisé "Loi sur l'innovation créative et la prévention de la contrefaçon", étendrait toutes les protections entourant les droits d'auteur aux dessins et patrons de mode, pendant une durée de trois ans après l'enregistrement.

L'initiative législative a l'appui de plusieurs sénateurs, démocrates et républicains, de la CFDA et de plusieurs associations d'industriels de la mode.

"J'ai bon espoir de le voir adopter au Sénat dans le courant des trois prochaines semaines", estimait jeudi le sénateur Schumer dans les colonnes du quotidien Women's Wear Daily.

Si la lutte contre le piratage est une priorité, au Lincoln Center la bataille contre les resquilleurs s'organise. Dans un espace beaucoup plus vaste que précédemment, ordinateurs et machines électroniques ont été mis en place là où des assistantes peinaient d'ordinaire à vérifier l'identité des invités sur leurs listes.

Plus possible donc d'inscrire soi-même un faux numéro de siège ou de rang sur l'invitation: le code-barre est scanné, révélant l'impitoyable vérité au spectateur contraint de rester debout pendant le défilé, quand il y a accès.

Les créateurs les plus attendus sont programmés cette année à partir de vendredi, certains défilés n'ayant pas eu lieu jeudi en raison du Nouvel an juif. Le Libanais Georges Chakra doit notamment montrer sa nouvelle collection de prêt-à-porter très attendue, avant le lancement de la folle nuit de "Fashion Night Out", où des dizaines d'événements sont prévus tard dans la nuit dans tout New York.

Par Paola MESSANA

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